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标题: 离子注入的应用范围 [打印本页]

作者: www.hbenyi.com 时间: 2014-1-14 14:52
标题: 离子注入的应用范围

用离子束轰击工件表面，使离子钻入被加工材料表面层，以改变表面层性能的方法称为离子注入。

离子注入的应用范围很广，如将离子强行注入金属表面后，可改变表面层性能，且注入元素的种类和数量不受合金系统平衡相图中固溶度限制，因而可以获得一般冶金工艺无法得到的各种表面合金。多片锯端面铣

离子注入在半导体方面的应用在国内外部很普遍。它是把磷、硼等“杂质”离子注入单晶硅中规定的区域及深度后，可以得到不同导电型的P型或N型半导体以及P-N结；也可用来制造些通常用热扩散难以获得的各种特殊要求的半导体器件。

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