离子镀覆简介

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离子镀覆是将一定能量的离子束轰击某种材料制成的靶，离子将靶材粒子击出，使其镀覆到靶材附近的工件表面上。离子镀覆所利用的也是溅射效应，但其目的不是加工而是镀膜，以改善工件材料的表面性能。

  镀覆时将镀膜材料置于靶上，一般使靶面与离子束方向成角度接受离子束的轰击，被镀工件表面应与溅射粒子运动方向相垂直。离子镀覆的膜层附着力强，镀层组织致密，可镀材料广泛，各种金属、非金属、合金、化台物、半导体、高熔点材料和某些合成材料等均可镀覆。包子机  邢台物流